清溢参展SEMICON China and FPD China 2017国际半导体展
2017-11-07 10:36
2017年3月14-16日,汇集目前中国半导体产业主要优秀厂商的SEMICON CHINA 2017在上海如期举行。清溢作为国内成立最早、规模最大、技术最先进的集研发、设计、生产、销售于一体,专业制作高精度掩膜版的企业,深圳市首批“国家级高新技术企业”,同时公司也是“深圳市光掩膜技术研究开发中心”的依托单位,全程参与了此届盛会,除了传统的半导体制造专区的公司形象展示,更借助SEMICON CHINA 这个良好产业交流平台同众多企业一起共同探讨中国半导体产业未来发展之路。

本次展会清溢针对国内TFT行业市场及AMOLED行业展示了G8.5 Mask及目前清溢最新的技术能力表现,作为国内领先的掩膜版制作商,展会开放日,宾客如云,吸睛无数,成功地体现了企业的核心价值观,优异的品牌价值,受到业界广泛关注,清溢通过不断实现工艺技术突破,自主研发高精度,高规格的Photomask,只为更好地提供优异的产品服务于国内客户,共同为发展国内半导体及FPD事业做出贡献,长风破浪会有时,直挂云帆济沧海!清溢,我们在路上……
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DIC EXPO 2025:清溢光电闪耀国际显示技术舞台
2025-08-15
8 月 7 日至 9 日,由中国光学光电子行业协会液晶分会(CODA)主办的 DIC EXPO 2025 国际(上海)显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心举行。这场汇聚全球 40 余个国家及地区专业人士的盛会,为行业搭建了技术展示与合作交流的重要平台。
作为国内掩模版领域的领军企业,清溢光电携最新自主研发成果亮相,全方位展示了在高端掩膜版技术及显示领域的创新能力,为半导体显示产业升级注入新活力。
此次主打展品 G6 AMOLED 超高精度光学掩膜版备受关注:980×1150mm 尺寸,最小线宽仅 1.2μm(约为头发丝直径的七十分之一),位置精度 0.2μm,缺陷精度 0.5μm。该产品量产打破国外垄断,以 “提性能、优工艺、降成本” 为亮点凸显技术领先性与本土化服务优势。
合肥清溢光电PSM产品开发项目启动大会顺利召开
2025-06-20
2025年6月19日下午,合肥清溢光电有限公司PSM产品(相移掩膜版)开发项目启动大会顺利召开。会议介绍了项目市场应用情况并讨论了实施方案计划,市场部、采购部、资材部、新产品整合与开发部、品管部以及制造厂的相关人员出席了本次会议。
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